三氯氢硅（SiHCl3）是制备硅烷、多晶硅的重要原料，在催化剂作用下可发生反应：2SiHCl3(g)
SiH2Cl2(g)+SiCl4(g)，在50 ℃和70 ℃时SiHCl3的转化率随时间变化的结果如图所示。下列叙述正确的是
A.正反应方向为放热反应
B.反应速率大小：va ＜vb
C.70 ℃时，平衡常数K =
D.增大压强，可以提高SiHCl3的平衡转化率，缩短达平衡的时间
下列能用勒夏特列原理解释的是
A.工业合成氯化氢时氢气过量
B.高温及加入催化剂都能使合成氨的反应速率加快
C.H2、I2、HI平衡时的混合气体加压后颜色变深
D.向饱和NaCl溶液中通入HCl，有晶体析出
在一个固定容积的密闭容器中，可逆反应：mA(g)+nB(g) 
pC(g)+qD(g)中，当m、n、p、q为任意正整数时，达到平衡的标志是
A.气体分子的平均摩尔质量不再发生变化时 B.各组分的物质的量浓度不再改变
C.A与C的质量分数相等 D.反应速率vA∶vB∶vC∶vD=m∶n∶p∶q
下表是25℃时弱酸的电离平衡常数，下列说法正确的是
CH3COOH | HClO | H2CO3 |
Ka=1.8×10—5 | Ka=3.0×10—8 | Ka1=4.1×10—7 Ka2=5.6×10—11 |
A.根据表中数据可知，相同浓度CH3COONa和NaClO的混合溶液中，各种离子浓度的大小关系是：c(Na+)＞c(ClO﹣)＞c(CH3COO﹣)＞c(OH﹣)＞c(H+)
B.根据表中数据可知，次氯酸钠溶液中通入少量CO2的离子方程式为：2ClO﹣+CO2+H2O=CO32﹣+2HClO
C.向0.1mol·L-1CH3COOH溶液中加入少量水，溶液中
减小
D.室温下，将碳酸钠溶液加热至70℃，溶液的中的OH—数目增多
某温度下，向pH=6的蒸馏水中加入NaHSO4晶体，保持温度不变，测得溶液的pH为2。下列对该溶液的叙述中，不正确的是
A.该温度高于25℃
B.由水电离出来的H+的浓度是1.0×10－10mol·L－1
C.NaHSO4晶体的加入抑制了水的电离
D.若向纯水中加入Na2S固体，抑制了水的电离
下列有关电解质溶液的说法正确的是
A.同温度下，CH3COONH4溶液显中性，所以CH3COONH4不水解。
B.在室温下稀释两种酸时pH变化如图，其中HX为弱酸，且a点与b点的
数值相同
C.25℃时，等体积pH=3的HA和HB两种酸分别与足量的锌充分反应后，HA与Zn反应生成的氢气更多，HA是弱酸
D.若常温下，pH＝3的HA溶液中水电离出的c(H＋)为10－11mol·L－1，则能证明HA为弱酸。
