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下列离子方程式正确的是 A.金属钠与水反应:Na+ H2O=Na++ H2 B....

下列离子方程式正确的是

A.金属钠与水反应:Na+ H2O=Na++ H2

B.氯化铵溶液显酸性的原因:NH4+ +H2O=NH3·H2O+H+

C.AICl3溶液中加入足量氨水:Al3++4NH3-H2O= AlO2-+4NH4+2H2O

D.氯化铁溶液中滴加少量的硫化氢溶液:2Fe3++H2S= 2Fe2++S+2H+

 

D 【解析】 试题分析:金属钠与水反应:2Na+ 2H2O=2Na++2OH-+ H2,故A错误;水解可逆,氯化铵溶液显酸性的原因:NH4+ +H2ONH3·H2O+H+,故B错误;氢氧化铝难溶于氨水,AICl3溶液中加入足量氨水:Al3++3NH3-H2O= Al(OH)3↓+3NH4+,故C错误;氯化铁溶液中滴加少量的硫化氢溶液:2Fe3++H2S= 2Fe2++S+2H+,故D正确。 考点:本题考查离子方程式。  
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考点分析:
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青蒿素是抗疟特效药属于萜类化合物,如图所示有机物也属于萜类化合物,该有机物的一氯取代物有(不含立体异构)

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A.5种    B.6种

C.7种    D.8种

 

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化学与人类社会的生产、生活有着密切联系。下列叙述中正确的是

A.铜制品既能发生吸氧腐蚀又能发生析氢腐蚀

B.铝制品由于表面有致密的氧化膜,可以稳定存在于空气中

C.苹果放在空气中久置变黄和漂白过纸张久置变黄原理相似

D.高纯度的SiO2对光有很好的折射和全反射作用,可以制成光电池将光能直接转化为电能

 

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芳香酯I的合成路线如下:

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巳知以下信息:

①A-I均为芳香族化合物,A的苯环上只有一个取代基,B能发生银镜反应,D的相对分

子质量比C大4,E的核磁共振氢谱有3组峰。

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请回答下列问题:

IA→B的反应类型为           ,G所含官能团的名称为        

2步骤E→F与F→G的顺序能否颠倒?          填“能”或“否”,理由:           

3B与银氨溶液反应的化学方程式为               

4I的结构简式为_________

5符合下列要求的A的同分异构体有         种。

①遇氯化铁溶液显紫色    ②属于芳香族化合物

6根据已有知识并结合相关信息,写出以CH3CH2OH为原料制备CH3CH2CH2CH2OH的合成路线流程图无机试剂任用。合成路线流程图示例如下:

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E、G、M、Q、T是五种原子序数依次增大的前四周期元素。E、G、M是位于p区的同一周期的元素,M的价层电子排布为ns2np2n,E与M原子核外的未成对电子数相等;QM2与GM2-具有相等的价电子总数;T为过渡元素,其原子核外没有未成对电子。请回答下列问题:

1T元素原子的价电子排布式是__________。

2E、G、M三种元素的第一电离能由大到小的顺序为_     用元素符号表示,其原因为________。

3E、G、M的最简单氢化物中,键角由大到小的顺序为         用分子式表示,其中G的最简单氢化物的分子立体构型名称为_____             ___,M的最简单氢化物的分子中中心原子的杂化类型为             。M和Q的最简单氢化物的沸点大小顺序为__________写化学式

4EM、GM+、G2互为等电子体,EM的结构式为若有配位键,请用“→”表示。E、M电负性相差1.0,由此可以判断EM应该为极性较强的分子,但实际上EM分子的极性极弱,请解释其原因:                

5 TQ在荧光体、光导体材料、涂料、颜料等行业中应用广泛。立方TQ晶体结构如图所示,该晶体的密度为pg·cm-3。如果TQ的摩尔质量为Mg.mol-1,阿伏加德罗常数为NA mol-1,则a、b之间的距离为_______cm。

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硅是带来人类文明的重要元素之一,从传统材料到信息材料的发展过程中创造了许多奇迹。

l新型陶瓷Si3N4的熔点高、硬度大、化学性质稳定。工业上可以采用化学气相沉积法,在H2的保护下,使SiCI4与N2反应生成Si3N4沉积在石墨表面,写出该反应的化学方程式_            ___。

2已知硅的熔点是1420℃,高温下氧气及水蒸气能明显腐蚀氮化硅。一种用工业硅含少量钾、钠、铁、铜的氧化物合成氮化硅的主要工艺流程如下:

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①净化N2和H2时,铜屑的作用是           ;硅胶的作用是__________。

②在氮化炉中3Sis +2N2g =Si3N4S   △H= -727.5kJ.mol-l,开始时为什么要严格控制氮气的流速以控制温度?              ;体系中要通人适量的氢气是为了__________。

③X可能是            选填“盐酸”、“硝酸”、“硫酸”或“氢氟酸”

3工业上可以通过如下图所示的流程制取纯硅:

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①整个制备过程必须严格控制无水无氧。SiHCl3遇水能发生剧烈反应,写出该反应的化学方程式         

②假设每一轮次制备1mol纯硅,且生产过程中硅元素没有损失,反应I中HCI的利用率为90%,反应II中H2的利用率为9375%。则在第二轮次的生产中,补充投入HC1和H2的物质的量之比是       

 

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