Question

光刻胶是一种应用广泛的光敏材料，其合成路线如下(部分试剂和产物略去)：

已知：

Ⅰ．(R₁、R₂为烃基或氢)

Ⅱ．(R₁、R₂为烃基或氢)

(1) A分子中含氧官能团名称为             。

(2) C物质可发生的反应类型为          (填字母序号)。

a．加聚反应        b． 酯化反应        c．还原反应         d．缩聚反应

(3) B与Ag(NH₃)₂OH反应的化学方程式为                       。

(4) 与C具有相同官能团且含有苯环的同分异构体有4种，其结构简式分别为、、             和              。

(5) D和G反应生成光刻胶的化学方程式为                 。

Answer

(1)醛基(2分)(2) a b c(2分)

(3)(2分)

(4)(1分)、(1分)

(5)(2分)

【解析】

试题分析：(1) 由已知条件Ⅰ可知，A与乙醛反应生成B，说明A也为醛类物质，故A中的含氧官能团为醛基。

(2) A与CH3CHO在稀NaOH和加热条件下反应生成B的分子式为C9H8O，则A应为含7个碳原子的醛，D分子中含有苯环结构，则A、B、C均应有苯环结构，所以A为苯甲醛：，B为苯丙醛，C为B被银氨溶液氧化后所得产物：，从C的结构可知，碳碳双键可发生加聚反应，羧基可发生酯化反应，碳碳双键和苯环都可与氢气加成而发生还原反应，故选abc。

(3) Ag(NH3)2OH为弱氧化剂，只能把B分子中的醛基氧化，化学方程式为：

(4) 很明显还有一种结构是—COOH和—CH＝CH2位于苯环对位的情况，另一种是—COOH和苯基位于碳碳双键同一不饱和碳原子上的情况，结构简式见答案。

(5) 从已知Ⅱ可看出中的氯原子可被R2OH中的—OR2取代而生成酯，结合D和G的结构可知，D和G能发生与已知Ⅱ类似的反应，反应的化学方程式为：

考点：本题考查有机物的结构、同分异构体、有机反应类型和有机化学方程式