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在实验室中常以草酸钠(Na2C2O4)为标准液,通过氧化还原滴定来测定高锰酸钾溶...

在实验室中常以草酸钠(Na2C2O4为标准液通过氧化还原滴定来测定高锰酸钾溶液的浓度其反应的化学方程式为 C2O42—+MnO4+H+—→Mn2++CO2↑+H2O。下列有关草酸钠滴定高锰酸钾实验的叙述,正确的是

A.滴定过程中,高锰酸钾被氧化,草酸钠被还原

B.用酸式滴定管量取草酸钠溶液

C.该反应中,消耗的草酸钠与高锰酸钾的物质的量之比为5:2

D.为便于滴定终点的判断,滴定时必须往体系中加入指示剂

 

C 【解析】 试题分析:A、高锰酸钾具有强氧化性,草酸具有还原性,高锰酸钾能将草酸钠氧化,高锰酸钾被还原,草酸钠被氧化,故A错误;B、草酸钠溶液属于强碱弱酸盐,显碱性,故B错误;C、高锰酸钾中的锰离子由+7价降为+2价,共得到5mol电子,草酸钠中碳元素的化合价由+3价升为+4价,共失去2mol电子,要使得失电子守恒,消耗的草酸钠与高锰酸钾的物质的量之比应为5:2,故C正确;D、高锰酸钾本身为紫红色,以草酸钠(Na2C2O4)为标准液进行滴定时,滴定终点的判断依据是紫红色消失,不需要加指示剂,故D错误。 考点:考查了滴定实验、氧化还原反应的相关知识。  
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考点分析:
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CuSO4是一种重要的化工原料,其有关制备途径及性质如图所示.下列说法不正确的是

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A. 途径所用混酸中H2SO4与HNO3物质的量之比最好为3:2

B. 相对于途径,途径更好地体现了绿色化学思想

C. 1mol CuSO41100所得混合气体X中O2可能为0.75mol

D. Y可能是葡萄糖

 

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设NA为阿伏加德罗常数的值,则下列说法正确的是

A.电解精炼铜时,若阳极质量减少6.4 g,则电路中转移电子数为0.2NA

BNH4Al(SO42溶液中逐滴加入过量Ba(OH2溶液,离子方程式为

NH4+ +Al3++2SO42-+ 2Ba2++ 5OH=2BaSO4↓+ AlO2+ 2H2O+NH3•H2O

C常温下,由水电离出的H+浓度为10-13mol·L-1的溶液中,Fe2+、Cl、Na+、NO3可能大量共存

D葡萄糖(C6H12O6溶液中:SO42-、MnO4-、K+、H+ 可以大量共存

 

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右图为雾霾的主要成分示意图。下列说法不正确的是

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A.重金属离子可导致蛋白质变性

B.苯是最简单的芳香烃

C.向空气中大量排放SO2和NxOy都能引起酸雨和光化学烟雾

D.汽车尾气的大量排放是造成雾霾天气的人为因素之一

 

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【有机化学基础】(12分)化合物E可以通过下图所示的路线合成:

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1)检验A中官能团所选用的试剂为       _______

2B中含氧官能团的名称为____________________

3)满足下列条件物质C的同分异构体有___________

A.苯环上有两个取代基    B.遇FeCl3显紫色  C.可发生银镜反应和水解反应

4)由C生成D的反应类型为________________________

5D与过量NaOH溶液完全反应,消耗NaOH的物质的量为___________mol

6)反应D→E是一个分子内的取代反应 ,写出该反应的方程式                  

 

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(19)晶体硅是信息科学和能源科学中的一种重要材料,可用于制芯片和太阳能电池等,.以下是工业上制取纯硅的一种方法.

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已知:在一定条件下可发生反应:Si(s)3HCl(g) 满分5 manfen5.com SiHCl3(g)H2(g) ΔH<0

I.反应均需要加热,有如下两个温度区间分别供两反应选择,你认为反应应选择_______(填序号字母),原因是_______________

a .520~530K           B1350~1360K

II.现在实验室模拟工业上粗硅提纯的过程,已知SiHCl3遇水强烈水解,其他相关数据如下表所示:

物质

SiCl4

SiHCl3

AlCl3

FeCl3

沸点/℃

57.7

33.0

315

升华温度/℃

180

300

1)现用如下装置进行模拟反应的过程。实验室制HCl的反应原理为:

2NaCl(s) + H2SO4() 满分5 manfen5.com 2HCl↑ + Na2SO4

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A中是HCl的发生装置,你认为应选择下列哪套装置?____________(填装置的序号字母),装置D中碱石灰的作用为_____________________________________

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2)已知液态粗品SiHCl3中含有杂质SiCl4AlCl3FeCl3等,则流程中操作_____________(填操作名称),下列不是该操作所需的仪器是____________________(填装置序号字母);

a冷凝管 b 圆底烧瓶 c 蒸馏烧瓶 d 分液漏斗 e.温度计 f. 接受器

3)用SiHCl3H2反应制备纯硅的装置如下:

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按图示组装好仪器后,下列实验步骤的正确顺序为____________(填步骤的序号字母),

A.打开甲装置分液漏斗旋塞,滴加稀硫酸,反应生成H2

B.向装置中添加药品;

C.打开丙装置分液漏斗的旋塞,滴加SiHCl3,并加热相应装置;

D.检查装置气密性;

e.停止向丙装置滴加SiHCl3,并停止加热相应装置;

f.停止通H2

步骤c中需要加热的装置为____________(填装置序号

该套装置的设计缺陷是________________________

 

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