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单晶硅是信息产业中重要的基础材料。通常用碳在高温下还原二氧化硅制得粗硅(含铁、铝...

单晶硅是信息产业中重要的基础材料。通常用碳在高温下还原二氧化硅制得粗硅(含铁、铝、硼、磷等杂质),粗硅与氯气反应生成四氯化硅(反应温度450~500 ℃),四氯化硅经提纯后用氢气还原可得高纯硅。以下是实验室制备四氯化硅的装置示意图。

相关信息如下:

a.四氯化硅遇水极易水解;

b.硼、铝、铁、磷在高温下均能与氯气直接反应生成相应的氯化物;

c.有关物质的物理常数见下表:

物质

SiCl4

BCl3

AlCl3

FeCl3

PCl5

沸点/℃

57.7

12.8

315

熔点/℃

-70.0

-107.2

升华温度/℃

180

300

162

 

请回答下列问题:

(1)写出装置A中发生反应的离子方程式:____________________________

(2)装置A中g管的作用是______________;装置C中的试剂是____________;装置E中的h瓶需要冷却的理由是________________________________________

(3)装置E中h瓶收集到的粗产物可通过精馏(类似多次蒸馏)得到高纯度四氯化硅,精馏后的残留物中,除铁元素外可能还含有的杂质元素是____________(填写元素符号)。

(4)为了分析残留物中铁元素的含量,先将残留物预处理,使铁元素还原成Fe2+,再用KMnO4标准溶液在酸性条件下进行氧化还原滴定,反应的离子方程式为5Fe2++MnO+8H===5Fe3++Mn2++4H2O。

①滴定前是否要滴加指示剂?________(填“是”或“否”),请说明理由:

____________________________________________________________

②某同学称取5.000 g残留物,经预处理后在容量瓶中配制成100 mL溶液,移取25.00 mL试样溶液,用1.000×10-2 mol· L-1 KMnO4标准溶液滴定。达到滴定终点时,消耗标准溶液20.00 mL,则残留物中铁元素的质量分数是________

 

MnO2+4H++2Cl-Mn2++Cl2↑+2H2O 平衡气压 浓H2SO4 SiCl4沸点较低,用冷却液可得到液态SiCl4 Al、Cl、P 否 MnO有颜色,故不需其他指示剂 4.48% 【解析】制备四氯化硅的原料为Cl 2 和Si。A装置为Cl2 的制备装置,B、C装置为除杂装置。先用B除去HCl,再用C(浓H2SO4 )除去H 2 O蒸气。Cl 2 通入粗硅中反应,用冷水将产生SiCl 4 冷凝即可。(1)制取氯气用浓盐酸和MnO 2 在加热条件下反应。(2)g管是将分液漏斗与烧瓶相连,则它们中的压强是相待的,这样便于盐酸能顺利滴下。SiCl 4 的沸点很低,只有57.7℃,而反应的温度达几百度,故需要冷凝收集。(3)从物质的物理性质表可发现,AlCl 3 ,FeCl 3 和PCl 5 均易升华,故还应还有Al、P、Cl元素。(4)由于高锰酸钾本身是紫红色的,与Fe 2+ 反应时,可以褪色,故而可以作为指示剂。根据方程式可以找出关系,5Fe2+ ~MnO4- , n (Fe)= 10 -2 ×20×10 -3 ×5× =4×10 -3 mol。W (Fe)= 4×10 -3 × ×100% =4.48%。  
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考点分析:
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硅是带来人类文明的重要元素之一,从传统材料到信息材料的发展过程中创造了一个又一个奇迹。

(1)硅在元素周期表中的位置是_______

(2)工业生产粗硅的反应有SiO2+2CSi()+2CO↑SiO2+3CSiC+2CO↑。若产品中单质硅与碳化硅的物质的量之比为11,则参加反应的CSiO2的质量之比为          

(3)工业上可以通过如下图所示的流程制取纯硅:

①若反应I为  Si(粗)+3HClSiHCl3+H2

则反应II的化学方程式为                                           

②整个制备过程必须严格控制无水无氧。SiHCl3遇水剧烈反应生成H2SiO3、HCl和另 一种物质,写出该反应的化学方程式:                                   

③假设每一轮次制备1mol纯硅,且生产过程中硅元素没有损失,反应IHCl的利用率为90%,反应IIH2的利用率为93.75%,则在第二轮次的生产中,补充投入HCl H2的物质的量之比是           

 

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下列关于SiO2和CO2的叙述中不正确的是    

A.都是共价化合物

B.都是酸性氧化物,都能与强碱溶液反应

C.都能溶于水且与水反应生成相应的酸

D.SiO2可用于制光导纤维,干冰可用于人工降雨

 

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氯气用途十分广泛,可用于生产半导体材料硅,其生产的流程如下,下列说法不正确的是(   )

A.①③是置换反应,是化合反应

B.高温下,焦炭与氢气的还原性均强于硅的

C.任一反应中,每消耗或生成28 g硅,均转移4 mol电子

D.高温下将石英砂、焦炭、氯气、氢气按一定比例混合可得高纯硅

 

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工业上通过反应“SiO2+2CSi+2CO↑”制取单质硅,下列说法正确的是(  )

A. 自然界中硅元素均以SiO2形式存在

B. 硅的化学性质不活泼,常温下不与任何物质反应

C. 该反应条件下C的还原性比Si强

D. 生成4.48 L CO时转移电子数为0.4×6.03×1023

 

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关于硅及其化合物的叙述中,不正确的是

A.硅是良好的半导体材料

B.二氧化硅能与石灰石反应:SiO2CaCO3 CaSiO3CO2

C.可以用焦炭还原二氧化硅生产硅:SiO2 2C Si 2CO↑

D.水泥的主要成分是 Na2SiO3CaSiO3 SiO2

 

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