下列关于有机物的说法正确的是
A. 异戊烷和2-甲基丁烷互为同系物
B. 丙烯分子中所有原子均在同一平面上
C. 苯能发生氧化反应、还原反应和取代反应
D. 
和C4H10的二氯代物数目相同
化学与生产、生活密切相关，下列与化学有关的说法正确的是
A. 生理盐水和A1(OH)3胶体的本质区别是能否产生丁达尔效应
B. 纤维素和聚氯乙烯均为可降解的高分子化合物
C. 水晶项链和玻璃杯均属于硅酸盐产品
D. 耐蚀合金的防腐原理与电化学无关
光刻胶是一种应用广泛的光敏材料，其合成路线如下(部分试剂和产物略去)：
（1）Ｇ的名称________
（2）已知Ｅ能发生水解反应，则X的结构简式________
（3）C→D的反应类型是_______
（4）光刻胶的结构简式_______________________
（5）B→C第①步反应的化学方程式为_____________________
（6）Ｈ与Ｃ的分子式相同。满足下列条件的Ｈ的结构有_______种。
①分子结构中只有一个羟基，能与FeCl3溶液发生显色反应
②不能发生银镜反应
③分子中除苯环外无其它环状结构
（7）结合以上信息写出以Ａ为原料制备丙三醇的合成路线流程图(其它试剂任选)。______________
合成路线流程图示例如下：CH3CHO
CH3COOH 
CH3COOCH2CH3
A 、B 、C 、D 、E是原子序数依次增加的短周期元素。
已知A是形成化合物种类最多的元素， B的第一电离能至第四电离能分别是932kJ·mol－1、1821kJ·mol－1、15390kJ·mol－1、21771kJ·mol－１；C元素原子核外最外层成对电子对数与其单电子数相等；D元素的常见单质的键能是双原子分子中最大的；E的氧化物是光电纤维的成分。F位于周期表中第四周期IIB族。回答下列问题：
（1）F元素原子的外围电子排布式____.在F元素的硫酸盐中逐滴滴入NaOH溶液至过量得到透明澄清的无色溶液，该溶液中含有一种带两个单位负电荷的配离子，则F元素的硫酸盐与过量NaOH溶液反应的化学方程式为_____
（2）B与氯元素形成的化合物的立体构型为_____
（3）C元素可形成多种单质。其中是一种单质的分子式为C60 则C60的为_____晶体，在该晶体中每个C原子只与相邻的3个C原子形成化学键，C60分子中只含有五边形和六边形。其结构如图１所示。则1molC60分子中含______molσ键
（4）A、C 、D三元素形成的一种分子，其化学式为 A６C３D６，该分子结构与苯相似,其结构中含有三个-DA2，则A６C３D６的结构简式为_____。该分子中电负性最大的元素的杂化轨道类型是_____
（5）C与 E两元素空间网状结构的晶体。其晶胞如图2所示。查阅资料可知该晶体的熔点低于金刚石，其理由是____，若该晶胞边长为a cm，碳原子直径为b cm，硅原子直径为c cm，则该晶胞的空间利用率为_______(用含a.b.c的式子表示)。
.实验室用卤块（主要成分为MgCl2·6H2O，含有MgSO4.FeCl2等杂质）制备少量Mg(ClO3)2·6H2O的流程如下：
已知：①四种化合物的溶解度(S)随温度(T)变化曲线如右下图所示。
②室温时一些物质的Ksp如下表：
化学式 | Fe(OH)2 | Fe(OH)3 | Mg(OH)2 |
Ksp | 8.0×10-16 | 8.0×10-38 | 1.8x10-11 |
③ Mg(ClO3)2有较强的氧化性，其还原产物是Cl-.
（1）H2O2的电子式为_________
（2）滤渣的成分是____________（填化学式）；
（3)经测定，D中铁离子的浓度为1×10-5 mol/L,则x为______
（4）D中所发生的化学反应方程式为_____，框图中由D→......→制Mg(ClO3)2·6H2O晶体的实验步骤依次为：①加热蒸发；②_______（请补充）；③冷却结晶；④过滤洗涤。
（5）产品中Mg(ClO3)2·6H2O含量的测定：
步骤1：准确称量3.50 g产品配成100 mL溶液。
步骤2：取10.00 mL试液于锥形瓶中，加入10.00 mL稀硫酸和20 .00mL 1.000 mol/L的FeSO4溶液，微热。
步骤3：冷却至室温，用0.100 mol/L K2Cr2O7溶液滴定剩余的Fe2＋至终点。
步骤4：将步骤2、3重复两次
①步骤3中发生反应的离子方程式____________
②步骤3中若滴定前不用标准液润洗滴定管，将会导致最终结果_____（填“偏大”. “偏小”或“不变”）。
③若平均消耗K2Cr2O7溶液15.00 mL，则产品中Mg(ClO3)2·6H2O（其M=299g/mol）的质量分数为___________
根据要求回答下列问题
（1）T0C时,向一容积为2升的密闭容器中充入2molA、0.6molC和一定量的B三种气体，一定条件下发生反应．其相关信息如下：如图中t0～t1阶段c（B）未画出；如图中t2、t3、t4改变的条件是温度、压强、催化剂中的一种
①B的起始物质的量为____mol；t2时刻改变的条件是_______
②如图中各阶段平衡时对应的平衡常数如下表所示：
时间段 | t1～t2 | t2～t3 | t3～t4 | t5～t6 |
平衡常数 | K1 | K2 | K3 | K4 |
K2______ K4（填“＞或＜或.=”）；其理由是______________
③T0C时，该反应的平衡常数是_________（保留两位小数）；维持温度不变，在t1时刻再向该容器中加入1molA,0.5molB，0.3molC,重新达平衡后α（Ａ）=______
（2）硅是重要的半导体材料。工业上由粗制纯硅的过程如下：
实验测得上述由SiCl4制纯硅的反应中，测得每生成1.12kg纯硅(Si的相对原子质量为28)需吸收akJ热量，则该反应的热化学方程式_______________________
