Question

二氯二氢硅（SiH₂Cl₂）常用于外延法工艺中重要的硅源。易燃、有毒，与水接触易水解，沸点8.2℃。在铜催化作用下，HCl与硅在25O-260℃反应可以制得SiH₂Cl₂。

（1）利用浓硫酸、浓盐酸为原料，选用A装置制取HCl，利用了浓硫酸的_____性。

（2）D装置中生成二氯二氢硅的化学方程式为____________。

（3）按照气体从左到右方向，制取SiH₂Cl₂的装置（h 处用止水夹夹好）连接次序为____________a→ (  ) → (  )→ (  )→ (  )→ (  )→ (  )→ (  )（填仪器接口的字母，其中装置C用到2次）。

（4）按从左到右的顺序，前面装置C中装的药品为________，后面装置C的作用为________。

（5）反应除生成二氯二氢硅之外，还会生成H₂和______、____。

（6）新的制取SiH₂Cl₂方法是：往硅粉中先通入Cl2在300-350℃反应生成SiCl₄，然后再与HCl在250-260℃反应，可以大大提高产率。如果通人气体次序相反，结果会_______（用化学方程式表示）。

Answer

吸水 Si+2HCl 250℃～260℃ SiH2Cl2 defgbcd P2O5或CaCl2 尾气处理和防止空气中的水进入B中 SiCl4 SiHCl3等 SiH2Cl2+2Cl2SiCl4+2HCl (或SiH2Cl2+Cl2SiHCl3+HCl)

【解析】(1)利用浓硫酸、浓盐酸为原料，浓硫酸有吸水性，使浓盐酸更易挥发出HCl；
(2)D装置中生成二氯二氢硅的化学方程式为Si+2HClSiH2Cl2；
(3)A装置制取HCl，连接C装置干燥，为a-d-e，从f进入D中反应，SiH2Cl2从g处挥发，在B装置中收集，SiH2Cl2密度比空气重，导气管应长进短出，为防止空气中的水进入B中，则应在B后接干燥管，故顺序为：adefgbcde；

(4)C装置干燥氯化氢气体，故应选酸性P2O5或中性CaCl2干燥剂，后面装置C的作用为尾气处理和防止空气中的水进入B中；

(5)反应除生成二氯二氢硅之外，还会发生反应3Si+10HCl2SiHCl3+SiCl4+4H2，生成H2和SiCl4、SiHCl3等；

(6)往硅粉中先通入Cl2在300-350℃反应生成SiCl4，然后再与HCl在250-260℃反应，可以大大提高产率．如果通人气体次序相反，结果会SiH2Cl2与Cl2反应，SiH2Cl2+2Cl2SiCl4+2HCl(或SiH2Cl2+Cl2SiHCl3+HCl)。

点睛：物质制备实验装置的分析判断，搞清原理是解题关键，分析由图可知：SiH2Cl2在D中生成，则A装置为制HCl气体的装置，SiH2Cl2沸点低，挥发，在B中收集，因为SiH2Cl2遇水水解，故装置中应无水，则装置顺序为，A装置制取HCl，连接C装置干燥，为a-d-e，从f进入D中反应，SiH2Cl2从g处挥发，在B装置中收集，SiH2Cl2密度比空气重，导气管应长进短出，为防止空气中的水进入B中，则应在B后接干燥管，故顺序为：adefgbcde，据此分析。