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设NA为阿伏伽德罗常数的值,下列说法正确的是( ) A.标准状况下,22.4 L...

设NA为阿伏伽德罗常数的值,下列说法正确的是    

A.标准状况下,22.4 L的CCl4C—Cl键数为为4NA

B.常温下,1 L 0.1mol•L﹣1溶液中氮原子数为0.2 NA

C.在反应KIO3+6HI=KI+3I2+3H2O中,每生成3molI2转移的电子数为6 NA

D.0.1mol乙酸与0.1mol乙醇反应生成乙酸乙酯的分子数为0.1NA

 

B 【解析】 试题分析:A、标准状况下,四氯化碳不是气体,故错误;B、根据原子守恒,N原子的物质的量为1×0.1×2mol=0.2mol,故正确;C、根据氧化还原反应中化合价的变化,每生成3molI2转移电子物质的量为5mol,故错误;D、乙酸和乙醇发生酯化反应,属于可逆反应,不能完全进行到底,故错误。 考点:考查阿伏加德罗常数等知识。  
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考点分析:
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化学与生活密切相关。下列有关说法不正确的是    

A.燃料的脱硫脱氮、NO的催化转化都是减少酸雨产生的措施

B.利用稀硝酸清除铜镜表面的铜锈是因为稀硝酸具有强氧化性

C.BaSO4难溶于水和强酸,在医学上常用作钡餐

D.食品包装中常放入有硅胶和铁粉的小袋,防止食物受潮和氧化变质

 

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[化学——选修5:有机化学基础]

已知一个碳原子上连有两个羟基时,易发生下列转化:

请根据下图回答问题:

(1)E中含有官能团的名称是               ;③的反应类型是            ,C跟新制的氢氧化铜反应的化学方程化为                      

(2)已知B的相对分子质量为162,其燃烧产物中n(CO2):n(H2O)=2:1,则B的分子式为            ,F的分子式为           

(3)在电脑芯片生产领域,高分子光阻剂是光刻蚀0.11mm线宽芯片的关键技术.F是这种高分子光阻剂生产中的主要原料.F具有如下特点:①能跟FeCl3溶液发生显色反应②能发生加聚反应;③芳环上的一氯代物只有两种F在一定条件下发生加聚反应的化学方程式为                    

(4)化合物G是F的同分异构体,它属于芳香族化合物,能发生银镜反应.G可能有

种结构,写出它们的结构简式                    

 

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利用铝灰(主要成分为Al、Al2O3、AlN、FeO等)制备铝鞣剂[主要成分为Al(OH)2Cl]的一种工艺如下:

(1)气体A能使湿润的红色石蕊试纸变蓝。铝灰在90 ℃水解生成A的化学方程式为                ;“水解”采用90℃而不在室温下进行的原因是                

(2)“酸溶”时,Al2O3发生反应的离子方程式为                          

(3)“氧化”时,发生反应的离子方程式为________________________________。

(4)“废渣”成分为______________(填化学式)。

(5)采用喷雾干燥而不用蒸发的原因是______________________。

(6)煅烧硫酸铝铵晶体,发生的主要反应为4[NH4Al(SO4)2·12H2O] 2Al2O3 + 2NH3 + N2 + 5SO3 + 3SO2 + 53H2O,将产生的气体通过如右图所示的装置。则集气瓶中收集到的气体是             (填化学式)。

 

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配平下列化学方程式或离子方程式。

(1)KI+KIO3H2SO4=I2K2SO4H2O

(2)MnOHCl=Mn2+Cl2↑+H2O

(3)P4KOH+H2O=K3PO4PH3

(4)ClOFe(OH)3________=ClFeOH2O

 

 

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下图中,A、B、C、D、E是单质,G、H、I、F是B、C、D、E分别和A形成的二元化合物。

已知:

①反应能放出大量的热,该反应曾应用于铁轨的焊接;

②I是一种常见的温室气体,它和E可以发生反应:,F中E元素的质量分数为60%。

回答问题:

(1)①中反应的化学方程式为                  

(2)化合物I的电子式为                  

(3)C与过量NaOH溶液反应的离子方程式为                     ,反应后溶于与过量化合物I反应的离子方程式为                 

(4)E在I中燃烧观察到的现象是                         

 

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试题属性

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