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氯气用途十分广泛,可用于生产半导体材料硅,其生产的流程如下,下列说法不正确的是 ...

氯气用途十分广泛,可用于生产半导体材料硅,其生产的流程如下,下列说法不正确的是

A.①③是置换反应,②是化合反应

B.高温下,焦炭与氢气的还原性均强于硅的

C.任一反应中,每消耗或生成28 g硅,均转移4 mol电子

D.高温下将石英砂、焦炭、氯气、氢气按一定比例混合可得高纯硅

 

D 【解析】 试题分析:A.二氧化硅与碳反应生成硅和一氧化碳,四氯化硅与氢气反应生成硅和氯化氢,都是置换反应,硅和氯气反应生成四氯化硅,是化合反应,正确;B.二氧化硅与碳反应生成硅和一氧化碳,四氯化硅与氢气反应生成硅和氯化氢,根据还原剂的还原性大于还原产物的还原性,则高温下,焦炭与氢气的还原性均强于硅,正确;C.28g硅的物质的量为1mol,每消耗或生成1个硅,化合价均变化4,即均转移4个电子,所以每消耗或生成28g硅,均转移4mol电子,正确;D.在高温下将石英砂、焦炭、氯气、氢气按一定比例混合,则石英砂与焦炭反应,氯气与氢气反应,就不再按照题干的流程进行,不会得到高纯硅,错误。 考点:考查反应类型的判断、还原性的比较、电子转移数目的计算的知识。  
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考点分析:
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将含有0.1mol SiO2的铝、硅混合物分别与足量NaOH溶液、盐酸混合,充分反应后前者可得到11.2L气体(标准状况),后者可得到6.72L气体(标准状况),则参加反应的n(HCl)n(NaOH)之比为

A1:1          B1:2            C2:1            D3:1

 

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下列各组离子在指定溶液中能大量共存的是

A.无色溶液中:K+Na+MnO4SO42

B.由水电离出的c(OH)=1.0×1013mol·L1的溶液中:Na+Ba2+ClBr

C.有较多Fe3+的溶液中:Na+NH4+HCO3SO42

D.强酸性溶液中:K+NH4+INO3

 

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下列对实验现象的预测不正确的是

A.向Ca(OH)2溶液中通入CO2,溶液变浑浊,继续通入CO2至过量,浑浊消失,再加入过量NaOH溶液,溶液又变浑浊

B.向Na2CO3饱和溶液中通入CO2,溶液变浑浊,继续通入CO2,有晶体析出

C.向Ca(ClO)2溶液中通入CO2,溶液变浑浊,再加入品红溶液,红色褪去

D.向Na2SiO3溶液中通入CO2,溶液变浑浊,继续通入CO2至过量,浑浊消失

 

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下列实验中,固体物质可以完全溶解的是

A1mol MnO2与含2mol H2O2的溶液共热       B1mol 铜投入含4mol HNO3的浓硝酸中

C1mol铜与 2mol H2SO4的浓硫酸共热        D.常温下1mol铝片投入到足量浓硫酸中

 

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下列陈述中,III都正确且两者间具有因果关系的一组是

选项

陈述Ⅰ

陈述Ⅱ

A

FeCl3溶液能腐蚀Cu

Fe的金属性强于Cu

B

Na2O2使酚酞溶液变红

Na2O2是碱性氧化物

C

Cl2可部分与水反应

用排饱和食盐水法收集Cl2

D

H2SO4可干燥NOSO2

NOSO2还原性都弱

 

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