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FeCl3 具有净水作用,但腐蚀设备,而聚合氯化铁是一种新型的絮凝剂,处理污水比...

FeCl3 具有净水作用,但腐蚀设备,而聚合氯化铁是一种新型的絮凝剂,处理污水比FeCl3满分5 manfen5.com效,且腐蚀性小。请回答下列问题:

(1)FeCl3净水的原理是(用离子方程式表示)                    。FeCl3溶液满分5 manfen5.com腐蚀钢铁设备,除H作用外,另一主要原因是(用离子方程式表示)                    

(2)为节约成本,工业上用NaClO3 氧化酸性FeCl2废液得到FeCl3

①若酸性FeCl2废液中c(Fe2+)=2.0×10-2mol·L-1c(Fe3+)=1.0×10-3mol·L-1

c(Cl)=5.3×10-2mol·L-1,则该溶液的PH约为         

②完成NaClO3 氧化FeCl2 的离子方程式:

□ClO3+□Fe2++□             =□Cl+□Fe3++□         

(3满分5 manfen5.com)生成聚合氧化铁的离子方程式为:xFe3++yH2O满分5 manfen5.comFex(OH)y(3x-y)++yH+    欲使平衡正向移动可采用的方法是(填序号)                

a.降温         b.加水稀释       c.加入NH4Cl     d.加入NaHCO3

 

(1) (2)① 2② 1 ClO3―+ 6 Fe2++ 6H+ = 1 Cl―+ 6 Fe3++3H2O(3)bd 【解析】 试题分析:FeCl3净水的原理是(用离子方程式表示):;FeCl3溶液腐蚀钢铁设备,除H+作用外,另一主要原因是三价铁离子可以与单质铁发生氧化还原反应,;根据电荷守恒2c(Fe2+)+ 3c(Fe3+)+ c(H+)= c(Cl-)+ c(OH-),带入数据可求出c(H+)=0.01 mol·L-1;根据氧化还原反应的规律,得失电子守恒,电荷守恒及质量守恒可得方程式: 1 ClO3―+ 6 Fe2++ 6H+ = 1 Cl―+ 6 Fe3++3H2O ;欲使xFe3++yH2OFex(OH)y(3x-y)++yH+ 平衡 正向移动可采用的方法是增加水,或使溶液呈碱性。 考点:氧化还原反应,盐类水解  
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考点分析:
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电化学在化学工业有着广泛的应用,

(1)工业冶炼铝的化学方程式是                   

(2)工业级氢氧化钾的溶液中含有某些含氧酸根杂质,可用离子交换法膜法电解提纯。电解槽内装有阳离子交换膜(只允许阳离子通过),其工作原理如图所示。

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①该电解槽的阳极反应式是                             

②除去杂质后的氢氧化钾溶满分5 manfen5.com液从液体出口          (填写“A”或“B”)导出。

(3)爱迪生蓄电池的反应式为:Fe+NiO2+2H2O满分5 manfen5.comFe(OH)2+Ni(OH)2;高铁酸酸钠(Na2FeO4)

是一种新型净水剂.用下面装置可以制取少量高铁酸钠。

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①此装置中爱迪生蓄电池的负极是________(填“a”或“b”),该电池工作一段时间后必须充电,充电时生成NiO2的反应类型是                

②写出在用电解法制取高铁酸钠时,阳极的电极反应式                  

 

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化合物Z由如下反应得到:满分5 manfen5.comZ的结构简式不可能是(     )

A.CH3CH2CHBrCH2Br     B.CH3CH(CH2Br)2

C.CH3CHBrCHBrCH3     D.CH2BrCBr(CH3)2

 

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设NA为阿伏加德罗常数的值,下列有关叙述不正确的是(     )

A.标准状况下,1 L庚烷所含有的分子数为NA/224

B.1 mol甲基(—CH3)所含电子数为9NA

C.标准状况下,B2H6(g)和C2H4的混合气体224 L,所含的电子数约为16NA

D.26 g C2H2和苯蒸气的混合气体中所含的C原子数为2NA

 

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已知分子式为C12H12的物质A的结构简式为满分5 manfen5.com,其苯环上的二溴代物有9种同分异构体,由此推断A苯环上的四溴代物的同分异构体的数目有(   

A9种             B10种             C11种            D12种

 

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一次性饭盒中石蜡(高级烷烃)和满分5 manfen5.com在食物中的溶出量是评价饭盒质量的指标之一,测定溶出量的主要实验步骤设计如下: 剪碎、称重→浸泡溶解→过滤→残渣烘干→冷却、称重→恒重,为了将石蜡溶出,应选用的试剂是   

A.氢氧化钠溶液     B.盐酸         C.稀硫酸      D.正己烷

 

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