Question

硅是一种重要的半导体材料，应用范围广。三氯硅烷(SiHCl₃)还原法是当前制备高纯硅的主要方法，生产过程如图所示：

(1)硅属于__________(选填“金属”或“非金属”)元素；

(2)写出上述流程中一种氧化物的化学式：______________________；

(3)上述流程中最后一步反应的化学方程式为______________________________，该反应属于________(填基本反应类型)反应；

(4)如果还原SiHCl₃过程中混入O₂，可能引起的后果是________________________；

(5)该流程中可以循环利用的物质的化学式是____________________。

Answer

非金属 SiO2(其他答案合理均可) SiHCl3＋H2Si＋3HCl 置换 爆炸 HCl

【解析】(1)根据元素的名称分析解答；

(2)根据物质的组成分析属于氧化物的物质，写出化学式；

(3)分析流程中最后一步发生反应的化学方程式，根据反应特点分析类型；

(4)根据氢气和氧气的混合气体点燃时会发生爆炸解答；

(5)根据流程分析可循环利用的物质。

【解析】
(1) (1)硅的名称中带有“石”字旁，属于非金属元素；

(2)二氧化硅是由硅元素和氧元素组成的，属于氧合物，化学式为：SiO2；

(3)上述流程中最后一步反应的化学方程式为：SiHCl3＋H2Si＋3HCl，该反应是由一种单质与一种化合物反应生成了另一种单质和另一种化合物，属于置换反应；

(4)如果还原SiHCl3过程中混入O2，会形成氢气和氧气的混合体，点燃时易引起爆炸；

(5)该流程中可以循环利用的物质的化学式是HCl。