下列叙述正确的是（用NA代表阿伏加德罗常数的值） A．2.4 g金属镁变为镁离子...

硅及其化合物在材料领域中应用广泛。下列说法正确的是

A．光导纤维的主要成分是硅

B．水晶项链的主要成分是硅酸盐

C．晶体硅能用来制造太阳能电池

D．二氧化硅是一种半导体材料

下列叙述正确的是

A．元素的单质一定由还原该元素的化合物制得

B．含有最高价元素的化合物不一定具有很强的氧化性

C．阳离子只能得到电子被还原，阴离子只能失去电子被氧化

D．在化学反应中，得电子越多的氧化剂，其氧化性就越强

有机物E是制备镇静药安宁G的中间体，E和G的两种合成路线如下。(部分反应条件已略去)

已知：

回答下列问题：

（1）A中所含官能团的名称是        ，检验该分子中官能团的常用试剂是          。

（2）A与C含有相同的官能团，B生成C的反应类型是          。

（3）C生成D的化学方程式是          。

（4）试剂a是           。

（5）下列说法正确的是           。

a．E能发生取代反应、氧化反应和消去反应

b．M与K是同系物

c．1 mol K能跟2 mol NaOH发生反应

（6）G的结构简式是           。

（7）G的同分异构体P，分子中含有“”结构，P的核磁共振氢谱有5组峰，P能水解生成CH3CH2NH2和甲，1 mol甲跟足量钠反应生成2 mol H2。则P的结构简式是           。

A、B、C、D为原子序数依次增大的四种元索，A2-和B+具有相同的电子构型；C、D为同周期元素，C核外电子总数是最外层电子数的3倍；D元素最外层有一个未成对电子。回答下列问题：

（1）四种元素中电负性最大的是        (填元素符号)，其中C原子的核外电子排布布式为__________。

（2）单质A有两种同素异形体，其中沸点高的是           (填分子式)，原因是        ；A和B的氢化物所属的晶体类型分别为             和            。

（3）C和D反应可生成组成比为1：3的化合物E，E的立体构型为             ，中心原子的杂化轨道类型为            。

（4）化合物D2A的立体构型为           ，中心原子的价层电子对数为           ，单质D与湿润的Na2CO3反应可制备D2A，其化学方程式为                         。

（5）A和B能够形成化合物F，其晶胞结构如图所示，晶胞参数，边长a= 0.566nm， F 的化学式为      ：晶胞中A 原子的配位数为          ；列式计算晶体F的密度(g·cm-3)          。

氰化钠(NaCN)是一种重要化工原料，用于化学合成、电镀、冶金等方面。NaCN有剧毒，含氰废水需经无害化处理才能排放，某电镀厂含氰废水的一种工业处理流程如下：

已知：HCNO的结构式是：H-O-C≡N

HCN的Ka = 6.02×10-10

[Ag(CN)2]-(aq) Ag+(aq) + 2CN-(aq) K = 1.3×10-21

回答下列问题：

（1）CN-中两原子均为8电子稳定结构，请写出CN-的电子式_____________________。

（2）氰化钠遇水会产生剧毒氢氰酸，请写出相应的离子方程式                    。

（3）向发生塔中通水蒸汽的目的是                                         。

（4）氧化池中氰化物的降解分两步进行

CN-被氯气氧化成低毒的CNO- ，写出相应的离子方程式               ，

CNO-被氯气氧化成无毒的两种气体，写出相应的离子方程式

（5）贮水池中废水须先经碱化后再进行氧化的原因___________________________。

（6）电镀厂电镀银时需要降低镀层金属的沉积速度，使镀层更加致密。电解液使用Na[Ag(CN)2]，请写出阴极反应式             ，解释工业电镀中使用氰离子(CN-)的原因                        。